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第一代半導(dǎo)體——硅的“逆天改命”之旅

29 2023/11
2023/11/29
半導(dǎo)體、芯片、硅
半導(dǎo)體,這個(gè)看似尋常,實(shí)則含義深遠(yuǎn)的詞,自其誕生以來(lái),就對(duì)人類社會(huì)產(chǎn)生了深遠(yuǎn)影響。

硅,本是平凡的沙礫,浴火重生后,推動(dòng)了電子工業(yè)、通信等領(lǐng)域的飛速發(fā)展,而且深刻改變了我們的生活。

今天,讓我們一起探索以硅為代表的第一代半導(dǎo)體的起源,見(jiàn)證其從沙礫“逆天改命”的制造之旅,以及全球半導(dǎo)體硅片的市場(chǎng)概況及競(jìng)爭(zhēng)格局。


第一代半導(dǎo)體的起源


我們身邊的材料可以根據(jù)導(dǎo)電性分為導(dǎo)體、絕緣體和半導(dǎo)體。金屬、石墨、人體等具有良好的導(dǎo)電能力,被稱為導(dǎo)體。橡膠、塑料、干木頭等是不導(dǎo)電的,或者說(shuō)導(dǎo)電能力極差,屬于絕緣體。而導(dǎo)電能力介于導(dǎo)體與絕緣體之間的硅、鍺等材料,就是半導(dǎo)體。

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半導(dǎo)體的起源可以追溯到19世紀(jì),當(dāng)時(shí)科學(xué)家們開(kāi)始研究半導(dǎo)體材料,如鍺、硅。但“半導(dǎo)體”這個(gè)名詞大概到1911年才被考尼白格和維斯首次使用。


雖然半導(dǎo)體的四個(gè)基本物理特性——溫度效應(yīng)(電阻隨溫度的上升而下降)、光生伏特效應(yīng)(光照下產(chǎn)生電壓)、光電導(dǎo)效應(yīng)(光照下電導(dǎo)增加)、整流效應(yīng)(導(dǎo)電的方向性)在19世紀(jì)就被先后發(fā)現(xiàn),但總結(jié)出半導(dǎo)體的這四個(gè)特性一直到1947年底才由位于美國(guó)新澤西州茉莉山的貝爾實(shí)驗(yàn)室完成。


1945年秋,貝爾實(shí)驗(yàn)室成立了以威廉·肖克利為首的半導(dǎo)體研究小組;1947年12月,小組研制出了點(diǎn)接觸型的鍺晶體管;1950年,第一只“PN結(jié)型晶體管”問(wèn)世,其性能與貝爾實(shí)驗(yàn)室半導(dǎo)體研究小組設(shè)計(jì)的完全一致,小組成員因此于1956年獲得了諾貝爾物理學(xué)獎(jiǎng)。


(威廉·肖克利)


晶體管是20世紀(jì)的一項(xiàng)重大發(fā)明,是微電子革命的先聲,也是今天一切智能電子產(chǎn)品的基礎(chǔ)單元,廣泛應(yīng)用于手機(jī)、電視、計(jì)算機(jī)、可穿戴設(shè)備等。晶體管集成數(shù)量和密度是決定一款芯片性能強(qiáng)弱的關(guān)鍵指標(biāo)之一。比如,蘋(píng)果11系列手機(jī)搭載的A13芯片,擁有85億個(gè)晶體管;僅時(shí)隔4年,蘋(píng)果15 Pro 手機(jī)搭載的A17 Pro芯片,晶體管數(shù)量已經(jīng)達(dá)到190億個(gè)。


晶體管可以簡(jiǎn)單地理解為一種微型的開(kāi)關(guān),通過(guò)不同的組合設(shè)計(jì),具有整流、放大、開(kāi)關(guān)、穩(wěn)壓等功能。與普通機(jī)械開(kāi)關(guān)不同,晶體管利用電信號(hào)來(lái)控制自身的開(kāi)合,開(kāi)關(guān)速度非??欤瑢?shí)驗(yàn)室中的切換頻率最高可達(dá)到每秒1000億次以上。


雖然世界上第一支晶體管的材料是鍺,且直到20世紀(jì)60年代之前鍺在半導(dǎo)體中還占主要地位。但由于鍺是稀有金屬,成本高,并且容易受高溫和輻射的影響,于是,尋求新的材料成為半導(dǎo)體發(fā)展降低成本、提高性能的需求。


1954年,德州儀器的研究員戈登·蒂爾研制出了第一個(gè)商用的硅晶體管。該硅晶體管具有與鍺晶體管相同的工作原理,但它可以承受高溫。不過(guò)這時(shí)的硅管還要比鍺管貴得多。


1959年,仙童半導(dǎo)體“八叛徒”之一的諾伊斯(英特爾公司創(chuàng)始人),首次在硅片上制作出集成電路,開(kāi)啟了電子工業(yè)的硅時(shí)代。


(左至右:摩爾、羅伯茨、克萊爾、諾伊斯、格里尼克、布蘭克、赫爾尼和拉斯特)


直到20世紀(jì)60年代后期,硅材料逐漸取代了鍺,并一直“活躍”至今。以硅材料為代表的第一代半導(dǎo)體,取代了笨重的真空電子管,導(dǎo)致了以集成電路為核心的微電子工業(yè)的發(fā)展和整個(gè)IT 產(chǎn)業(yè)的飛躍。目前,全球超過(guò)90%的芯片及器件均由硅材料制成,包括最常見(jiàn)的 CPU、GPU、其他邏輯及存儲(chǔ)芯片等。


沙礫到硅片的“逆襲之旅” 


集成電路芯片制造材料多達(dá)數(shù)百種,按類別劃分主要包括硅片、光掩膜、光刻膠及配套試劑、電子氣體、工藝化學(xué)品、濺射靶材、拋光材料等,總體采購(gòu)中硅片占比始終最高。如下圖:


(2015-2021年全球集成電路芯片制造材料分類占比)


根據(jù)國(guó)際半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)協(xié)會(huì)(SEMI)數(shù)據(jù),2021年硅片在集成電路芯片制造材料中的采購(gòu)金額占比達(dá)到33%左右,是最主要的關(guān)鍵功能材料,100多億美元的半導(dǎo)體硅片支撐了5000多億美元的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)規(guī)模。


作為半導(dǎo)體制造的核心材料之一,硅片的出身其實(shí)是不起眼的沙礫。硅片制造流程繁復(fù),平凡的沙礫想要“逆天改命”成為硅片,大致需要如下三步的蛻變:


第一步——純化


硅在地殼中占比約27%,是除了氧元素之外第二豐富的元素。硅元素以二氧化硅和硅酸鹽的形式大量存在于沙子、巖石、礦物中,儲(chǔ)量豐富并且易于取得。


通常將95-99%純度的硅稱為工業(yè)硅。沙子、礦石中的二氧化硅經(jīng)過(guò)純化,可制成純度98%以上的冶金級(jí)硅;高純度硅經(jīng)過(guò)進(jìn)一步提純變?yōu)榧兌冗_(dá) 99.9999999%至99.999999999%(9-11個(gè)9)的超純多晶硅,即電子級(jí)多晶硅。

(硅片制備流程)


第二步——拉晶


單晶生長(zhǎng)是拋光片生產(chǎn)中最核心的一環(huán)工序,決定了硅片的質(zhì)量和純度,其技術(shù)主要分為直拉法(CZ)和區(qū)熔法(FZ)。在集成電路工業(yè)中使用的硅片幾乎都是采用直拉法生產(chǎn)的。


直拉法加工工藝:將超純多晶硅在石英坩堝中熔化,并摻入硼(B)、磷(P)等元素改變其導(dǎo)電能力,放入籽晶確定晶向,經(jīng)過(guò)單晶生長(zhǎng),制成具有特定電性功能的單晶硅錠。


第三步——切割


單晶硅錠經(jīng)過(guò)切片、研磨、拋光、清洗等工藝步驟,便制造成為半導(dǎo)體硅片。


半導(dǎo)體硅片的尺寸(以直徑計(jì)算)主要有50mm(2 英寸)、75mm(3 英寸)、100mm(4英寸)、150mm(6 英寸)、200mm(8英寸)與 300mm(12 英寸) 等規(guī)格。在摩爾定律的影響下,半導(dǎo)體硅片正在不斷向大尺寸的方向發(fā)展。


(數(shù)據(jù)來(lái)源:《芯片制造》)


硅片尺寸越大,在單片硅片上制造的芯片數(shù)量就越多,單位芯片的成本隨之降低。例如,在同樣的工藝條件下,300mm半導(dǎo)體硅片的可使用面積超過(guò) 200mm半導(dǎo)體硅片的兩倍以上,可使用率(衡量單位晶圓可生產(chǎn)的芯片數(shù)量的指標(biāo))是200mm半導(dǎo)體硅片的2.5倍左右。

一般來(lái)講,300mm硅片主要應(yīng)用于90nm及以下半導(dǎo)體制程范圍,用于制造邏輯電路、存儲(chǔ)器等高集成度的芯片,多在大計(jì)算量、大存儲(chǔ)量或便攜式終端上應(yīng)用,如智能手機(jī)、計(jì)算機(jī)、人工智能等領(lǐng)域。

200mm硅片主要應(yīng)用于90nm以上制程范圍的模擬電路、功率芯片、互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體(CMOS)圖像傳感器、微控制器、射頻前端芯片等,應(yīng)用場(chǎng)景包括微機(jī)電系統(tǒng)、電源管理、汽車電子、物聯(lián)網(wǎng)等領(lǐng)域(見(jiàn)下表)。


(8、12英寸硅片在不同制程的應(yīng)用情況)


向大尺寸方向發(fā)展是半導(dǎo)體硅片行業(yè)最基本的發(fā)展趨勢(shì)。目前,全球半導(dǎo)體硅片市場(chǎng)最主流的產(chǎn)品規(guī)格為300mm硅片和200mm硅片,300mm硅片占比持續(xù)上升。


“前五大”市占率超90%


長(zhǎng)期以來(lái),半導(dǎo)體行業(yè)呈現(xiàn)周期性波動(dòng)上漲的趨勢(shì)。根據(jù)SEMI 統(tǒng)計(jì),2016 年至2022年間,全球半導(dǎo)體硅片(不含SOI)銷售額從72.09億美元上升至138億美元,年均復(fù)合增長(zhǎng)率達(dá)11.47%。


(數(shù)據(jù)來(lái)源:SEMI)


需求結(jié)構(gòu)方面,近10年來(lái),6英寸及以下尺寸硅片需求基本保持穩(wěn)定,全球半導(dǎo)體硅片新增需求主要集中在8英寸和12英寸硅片,這兩種尺寸硅片的市場(chǎng)份額合計(jì)占比約為90%。尤其是12英寸硅片增速最快,市場(chǎng)份額占比接近70%。(見(jiàn)下圖)。


(數(shù)據(jù)來(lái)源:SEMI)


市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)方面,全球硅片市場(chǎng)主要由境外廠商占據(jù),市場(chǎng)集中度較高,龍頭硅片廠商壟斷全球90%以上的市場(chǎng)份額,排名前五的廠商分別為日本信越化學(xué)(Shin-Etsu)、日本勝高(SUMCO)、中國(guó)臺(tái)灣環(huán)球晶圓(Global Wafers)、德國(guó)世創(chuàng)(Siltronic)、韓國(guó)鮮京矽特?。⊿K Siltron)。



(數(shù)據(jù)來(lái)源:Omdia)


我國(guó)半導(dǎo)體硅片市場(chǎng)規(guī)模是全球半導(dǎo)體硅片市場(chǎng)的重要組成部分,在全球半導(dǎo)體硅片市場(chǎng)中占比呈增長(zhǎng)趨勢(shì)。目前,國(guó)內(nèi)各硅片廠商加速布局8英寸及 12英寸大硅片項(xiàng)目,擁有12英寸硅片生產(chǎn)能力的公司主要包括滬硅產(chǎn)業(yè)(688126.SH)、立昂微(605358.SH)、TCL 中環(huán)(002129.SZ)、 奕斯偉、中欣晶圓等。


半導(dǎo)體硅片的下游是芯片制造企業(yè),包括大型綜合晶圓代工企業(yè)及專注于存儲(chǔ)器制造、傳感器制造與射頻芯片制造等領(lǐng)域的芯片制造企業(yè)。半導(dǎo)體硅片的終端應(yīng)用領(lǐng)域涵蓋智能手機(jī)、便攜式設(shè)備、物聯(lián)網(wǎng)、汽車電子、人工智能、工業(yè)電子、軍事、航空航天等眾多行業(yè)。隨著科學(xué)技術(shù)的不斷發(fā)展,新興終端市場(chǎng)還將不斷涌現(xiàn)。


盡管以硅為代表的第一代半導(dǎo)體作為科技進(jìn)步的重要里程碑,深刻地改變了我們的生活。但隨著科技的進(jìn)步,對(duì)新一代半導(dǎo)體的需求也在不斷增加。下期,小編將跟大家一起學(xué)習(xí)第二代半導(dǎo)體材料——砷化鎵(GaAs)、磷化銦(InP)。敬請(qǐng)期待!



參考資料:《半導(dǎo)體物理與器件》(Donald A. Neamen)、《芯片制造——半導(dǎo)體工藝制程實(shí)用教程》(Peter Van Zant)、《微電子制造科學(xué)原理與工程技術(shù)》(Stephen A. Campbell)、中國(guó)工程院院刊《中國(guó)工程科學(xué)》、上市公司公告、招股說(shuō)明書(shū)。